Volfram kísilpúður WSi2 duft

Volfram kísilefni (WSi2) er ólífrænt efnasamband sem er kísil úr wolfram. Það er leiðandi keramik efni.

Notað í öreindatækni sem snertiefni með viðnám 60-80 μΩ cm; Það myndast við 1000 gráður. Það er oft notað sem shunt fyrir pólýkísilvíra til að auka leiðni þeirra og merkjahraða. Wolfram kísillagið er hægt að útbúa með efnagufuútfellingu, til dæmis með því að nota mónósílan eða díklórsílan með wolframhexaflúoríði sem upprunagas. Hin útfellda filma er ekki stoichiometric og þarf glæðingu til að breytast í leiðandi stoichiometric form. Volframkísilíð er snemma valkostur við wolframfilmu. Volframkísilíð er einnig notað sem hindrunarlag milli sílikons og annarra málma eins og wolfram.

Volframkísilíð hefur einnig notkun í öreindatæknikerfum og það er aðallega notað sem þunn filma til að framleiða smáhringrásir. Í þessu skyni er hægt að plasmaæta wolframkísilfilmur með því að nota til dæmis köfnunarefnistríflúoríðgas.

WSi2 gengur vel í andoxunarhúð. Sérstaklega, svipað og mólýbdendísilicide (MoSi2), gerir mikil losun wolframdísilíðs þetta efni aðlaðandi fyrir háhita geislunarkælingu og hefur áhrif á varmavörn.