Tungsten sputtering Target

ZhenAn Tungsten Sputtering Framleiðendur

Tungsten sputtering Lýsing

Rétthyrndu segulsviði og rafsviði er bætt á milli sputtered marksins (bakskautsins) og rafskautsins og nauðsynlegu óvirku gasinu (venjulega Ar gas) er fyllt í hálofttæmishólfið. Undir virkni rafsviðsins er Ar gasið jónað í jákvæðar jónir og rafeindir, ákveðin neikvæð háspenna er bætt við markið.

Rafeindirnar sem sendar eru frá markinu verða fyrir áhrifum af segulsviðinu og jónunarlíkur á vinnugasinu aukast og mynda háþéttni plasma nálægt bakskautinu.

Ar jónir eru knúnar áfram af Lorentz kraftinum. Það hraðar í átt að markyfirborðinu og sprengir markyfirborðið á mjög miklum hraða, þannig að sputtered atómin á skotmarkinu fylgja meginreglunni um skriðþungabreytingu og fljúga burt frá markyfirborðinu með mikilli hreyfiorku til undirlagsins til að setja filmu.

ZhenAn býður upp á yfirgripsmikið úrval sputteringsmarkmiða, uppgufunargjafa og annarra útfellingarefna, skráð eftir efni alls staðar á staðnum. Finndu hér að neðan fjárhagsáætlunarverð fyrir sputtering markmið og útfellingarefni sem passa við kröfur þínar. Raunverð getur verið breytilegt vegna markaðssveiflna.

Tungsten (W) Almennar upplýsingar

Volfram, einnig þekkt sem wolfram, er eitt þéttasta frumefni í heimi. Það hefur þéttleika 19,3 g/cc, bræðslumark 3.410 gráður og gufuþrýstingur upp á 10-4 Torr við 2.757 gráður.

Útlitið er beinhvítt og glansandi. Hann er þekktur fyrir að hafa hæsta bræðslumark allra málma og einkennandi hörku þess gerir það erfitt að vinna og smíða í hreinu formi.

Volfram er almennt notað til að búa til rafþræðir. Volframkarbíð er að finna í borum, sagum og skartgripum. Volfram er gufað upp í lofttæmi og er notað við framleiðslu á hálfleiðurum, efnarafalum og skynjurum.